高機能真空蒸着装置
★ MPVAP ★
360度回転／傾斜可能な試料ホルダ搭載で生産性が最大4倍に
※実際の商品は写真と一部異なる場合があります。
| 目 的 : | 基板状の試料表面に各種金属薄膜を成膜し、膜厚が正確に制御でき真空蒸着装置です。 |
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| 特 徴 : |
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当社発案の360度回転キュービック基板ホルダーを搭載し、試料設置面積を4倍向上させました。 真空を破らず、1回のプロセスで、4つの成膜条件のサンプルが作製できます。 膜厚依存性や蒸着条件依存性を調べるのに非常に便利な機能です。
SEM観察用試料の作製など3次元試料表面への蒸着を行う場合、試料ホルダーを回転しながら蒸着することにより、 3次元試料の各方向からの蒸着を実現することができ、明瞭なSEM立体観察が可能になります。 さらに、縦型専用持具を取り付ければ、1回のプロセスで基板の両面に蒸着することも可能になります。
また、この回転ホルダーをうまく利用すると、蒸発源シャッターの開閉に伴う膜厚センサーへの
輻射熱変動問題を回避することができ、忠実かつ精密な膜厚データが得られます。
専門的な話になりますが、通常使われている水晶振動型膜厚モニターの膜厚表示データは、センサーの温度変動に敏感に反応します。
蒸発源シャッターを開閉する瞬間、高温の蒸発坩堝からのセンサーへの輻射熱変動も同時に発生するため、実際の膜厚と異なるデータが示されます。
回転ホルダー を使う場合、シャッターを最初から開けっ放しにしておき、蒸発源坩堝の温度が平衡状態になった状態でキュービックホルダーを回転させれば、
基板への蒸着開始・終了を実現でき、センサーへの輻射熱の変動が生じません。
キュービックホルダー模式図