汎用CVD装置
∞ MPCVD-50 ∞
CNT合成,カーボン成膜,ナノセラミック成膜,窒化,カルコゲナイド成膜等に
※実際の商品は写真と一部異なる場合があります。
| 目 的 : |
CNTを合成したり、粉体試料にカーボンを成膜したり、各種CVD成膜するための汎用管状炉タイプ熱CVD装置です。 アンモニア、各種CVD反応ガス、昇華系固体前駆体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、 窒化処理、カルコゲナイド（二硫化モリブデンMoS2など）層状物質の成膜などにも応用できます。 |
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| 特 徴 : |
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LIB電池用Si負極材へのカーボンコート
二硫化モリブデン膜
長尺CNT/SiのSEM画像
粉末CNTのSEM画像
主な仕様
| 基本構成 | 管状炉 | 常用使用温度 | 400～1000℃ |
| 炉内寸法 | 60㎜φ×L260㎜ | ||
| 温度制御 | 1ゾーン プログラム付温度調節計 | ||
| 外形寸法 | W300㎜×H200㎜×D186㎜ | ||
| 電気容量 | 700W | ||
| 炉心管 | 材質 | 石英 | |
| サイズ | OD50㎜×ID46㎜×L900㎜ | ||
| ガス制御 | マスフローコントローラ | ||
| 導入ガス種 |
キャリアガス：N2 or Ar 還元ガス：H2 炭化水素ガス：C2H2 or C2H4 or CH4 |
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| 真空計 | ブルドン管真空計 | ||
| 排気ポンプ | ロータリーポンプ | ||
| 外形寸法 | W156㎜×H200㎜×D300㎜ | ||
| 液体原料導入システム | |||
| 触媒前駆体導入機構 | |||
| 外形寸法 | W1100㎜×H1000㎜×D500㎜ | ||