RFプラズマアシストCVD装置

◆　MPCVD-Plasma　◆

ガスのイオン化や前駆体の分解を促進

概　要 :
横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあるいは前駆体のイオン化を促進し、熱CVDゾーンでの反応効率を上げる。　ご希望の目的に合わせて作製しますので、詳細はご相談ください。