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特殊装置作製実績詳細

高周波プラズマ装置

概　要：	RFスパッター装置を改造し、アンモニアと炭化水素ガスをプラズマで分解し、基板に窒化炭素系の膜を成膜するための装置。
特　徴：	小型の実験装置アンモニアの腐食に対して耐久性を高めた構造得られる窒化炭素膜は、光触媒の効果が現われる？

固体前駆体導入型CVD装置

概　要：	当社の標準型CVD装置（MPCVDシリーズ）の上流側に、固体前駆体導入ユニットを追加し、金属化合物や酸化物の固体前駆体を加熱昇華し、ガス成分としてCVD反応ゾーンに導入できるCVD装置。

特　徴：	固体前駆体を個別に加熱・昇華する機構固体前駆体チャンバーへのキャリアガスの個別制御機構

液体前駆体導入型CVD装置

概　要：	当社の標準型CVD装置（MPCVDシリーズ）の上流側に、液体前駆体導入ユニットを追加し、金属化合物の液体前駆体（TEOS)を加熱とバブリングし、ガス成分としてCVD反応ゾーンに導入できるCVD装置。
特　徴：	液体前駆体を個別に加熱する機構液体前駆体チャンバーへのバブリングガスの個別制御機構 CVDへのTEOSの導入により、SiO2絶縁膜が成膜可能

銅合金ファスナー表面変色用Rool-to-Roll常温常圧型CVD装置

概　要：	室温常圧型CVD法で、連続かつ roll-to-roll の量産形式で、気相法により、銅合金ファスナーの表面を改質し、銅合金の生の金属色を落ち着きのある渋い色に変色させる目的で開発した大型気相表面改質装置。

特　徴：	アンモニアを主成分としたCVD反応により。銅合金を酸化させ、10-20nmの酸化銅膜を形成。ファスナー表面に、ブラウン、青、緑、黒など、豊かな色合いに変色することができる。チャンバーの入口と出口に、不活性ガスによるガスカーテン機構を設け、「ガスフランジ」を実現。ファスナーがガスカーテンを定速で通過しても、外部のガスがチャンバーに入らない仕組み。排気したアンモニアガスを触媒反応槽で浄化し、排ガスのアンモニア含有率＝０ppmを実現。処理速度は、ファスナーの生産速度に匹敵し、Max. 5m/min.

連続CNT成膜用スライド型長尺管CVD装置

概　要：	ZrあるいはCuフォイルの両面に垂直配向CNT膜を連続に作製するためのCVD装置。作製されたCNTシートは、熱伝導TIMシートとして利用される。

特　徴：	処理しようとする大量のサンプルを長尺の反応管に最初から入れておく。等速に横スライド移動する加熱炉で、一列に設置したサンプルを連続に順次にCVD処理していく。通常の１バッチ方式に比べて、昇温・冷却の時間を実質大幅に短縮し、生産性が大幅向上した。

連続粉体CNT合成用ロータリーキルン型CVD装置

概　要：	粉末タイプのCNTを連続に作製するためのCVD装置。傾けた反応石英管を回転し、触媒粒子をCVDホットゾーンに、連続かつ等速に送り込む仕組み。 CVDゾーンで生成されたCNTが下流の回収ボックスに連続に回収される仕組み。

特　徴：	反応管を回転しながら、CVDプロセスが可能。触媒導入用回転系と、連続CVD処理用回転系は、それぞれ独立制御。傾き角度は、触媒流動性や処理速度に合わせて、自由に調整可能。

超硬WC粉体表面炭化処理用連続CVD装置

概　要：	超硬材であるWCの金型の靱性を高めるために、WC原料にカーボンを少量成膜するためのCVD装置。

特　徴：	管状炉および反応管を傾け、反応管を回転しながら、CVD処理できるロータリーキルン機能 WCに炭素膜が成膜できるプロセス条件を確立。

卓上型木質バイオマス　炭化・賦活試験装置

概　要：	植物や木質バイオマスを真空中で炭化するとともに、水蒸気賦活を行い、活性炭を試作するための小型実験装置。
特　徴：	植物の種類によって、炭化や賦活の結果が異なり、バイオマスの特性を調べるのに利用される。透明なチャンバーなので、炭化時のガス発生などが視覚的に観察できる。多種・少量のサンプルを手軽に試作するのに適している。

高真空・全自動グラフェン成膜CVD装置

概　要：	当社のグラフェンCVD装置に、高真空排気用ターボポンプシステムと、全自動バルブ制御ユニットを追加し、高真空でのグラフェン成長をほぼ全自動で実施可能にしたCVD装置。
特　徴：	電子制御バルブシステム管内圧力監視システム各種インターロック機能 Cuに単層グラフェン成長可能

ダイヤモンド合成用卓上ホットフィラメントCVD装置

概　要：	当社の卓上CNT合成装置に、ホットフィラメント機構を追加し、エタノール蒸気からダイヤモンド膜を作製するための実験装置。
特　徴：	基板加熱機構ありホットフィラメント機構ありエタノールは基板余熱で自然に蒸発

卓上窒化処理装置

概　要：	当社の卓上CNT合成装置に、アンモニアガスの導入機構を追加し、窒化処理を可能にした小型実験装置。
特　徴：	アンモニア流量計追加耐食性パーツを多用

レーザーアシストCVD成膜チャンバー

概　要：	紫外レーザーで加熱された基板を照射し、光触媒効果を有する窒化炭素膜を成膜するためのCVDチャンバー。
特　徴：	紫外レーザーを通す窓 3種類のガス導入ユニット基板ヒーターユニット真空排気ユニット

レーザー照射による表面改質用反応チャンバー

概　要：	雰囲気制御可能な真空チャンバーに設置した基板に、ファイバーレーザー光を照射し、雰囲気に応じて基板表面を改質するためのチャンバーユニット。
	詳細はお問い合わせください。

真空蒸着装置用面直傾斜+面内回転試料ホルダー

概　要：	当社の真空蒸着装置の試料ホルダーに、２つの回転系を導入し、蒸着される基板面を面内で回転させながら、その回転軸を傾けることができる特殊試料ホルダー。基板表面にマイクロ流路などの微細凹凸構造があり、その凹凸構造の壁面や底面にも金属膜を斑なく蒸着するために考案・設計した機構。

粉末試料への金属真空蒸着用試料振動ユニット

概　要：	お客様の既存の真空蒸着装置に、当社の粉末試料振動ユニットを追加し、上から下への蒸発を可能にする改造と、粉末試料に金属膜を蒸着することができるようにした。
特　徴：	真空対応の振動モーターを搭載。試料の流動特性に応じて、振動強弱が調整可能粉末粒子が振動によって試料容器内で転がりながら、場合によって踊りながら、全面に蒸着される。

高絶縁性シリコーンゴムの真空脱泡・充填・成形装置

概　要：	本装置は、シリコーンゴムの原液＋硬化剤の混合液を高電圧のX線発生電極ボックス内に気泡なしに注入し、硬化させ、高絶縁封入を行うために用いられる装置である。主な構成ユニットとして、3段分解可能な透明真空チェンバー、チェンバー内に設置される液体脱泡＆注入容器、注入on/offバルブ、高さ可変ボックス支持台、大容量・高速排気ポンプ2台で構成されている。
特　徴：	真空脱泡のため、気泡が少なく、絶縁性が高い。真空での注入のため、容器表面の気泡が生じにくい。

概　要：

本装置は、シリコーンゴムの原液＋硬化剤の混合液を高電圧のX線発生電極ボックス内に気泡なしに注入し、硬化させ、高絶縁封入を行うために用いられる装置である。
主な構成ユニットとして、3段分解可能な透明真空チェンバー、チェンバー内に設置される液体脱泡＆注入容器、注入on/offバルブ、高さ可変ボックス支持台、大容量・高速排気ポンプ2台で構成されている。

特　徴：

真空脱泡のため、気泡が少なく、絶縁性が高い。
真空での注入のため、容器表面の気泡が生じにくい。

バレル研磨メディアの大型自動生産装置

概　要：	バレル研磨メディアの研磨剤・樹脂の混合、脱泡、型への注入、成形硬化プロセスを連続に実施するための生産装置
	詳細はお問合せください。

電子電界放出特性評価装置

概　要：	垂直配向CNTの電界放射特性を簡易に測定するための装置である。
特　徴：	CNTの有する低電圧電子放射効果を測定可能電極間距離の微調整機構搭載で、高精度実現小型、簡単操作

主な仕様
測定精度	印加電圧：1～5kV 測定電流平均誤差：0.5mA以下
真空チャンバー	パイレックス製 OD150xID140xH100mm
上下可動式電極（正極）、固定電極（負極）
正極電極高さ調節用マイクロメーター付

ガス成分のQ-mass分析装置

概　要：	バイオマスの炭化時に発生したガス成分をQ-mass装置で分析し、CH4, H2, CO, CO2などのガス種の割合を調べるための実験装置。
	詳細はお問い合わせください。

電子線ホログラフィー位相計測用超高精度位相解析システム

概　要：	いままでの材料関係のジャンルと大幅に異なるが、科学計算ソフトウェアの一つで、電子線ホログラフィーの位相計測における新規解析方法とそれを実現したプログラムソフトウェア。初期位相が少しずつ異なる複数の電子線干渉縞画像を能動的に作製し、それらの干渉画像データを独自のアルゴリズムで解析し、測定すべき位相分布像を高精度に検出する。世界トップレベルの１/4000波長の位相検出精度が得られる。光干渉計測にもそのまま応用できる。
	詳細はお問合せください。